一、投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究（论文文献综述）
李程伟,周杨,黄斌[1]（2018）在《负压式气浮平台供气压力的研究》文中研究说明液晶平板在线检测过程中,使用负压式气浮系统的稳定性更高,为了比较负压的大小对气膜稳定性、供气参数、质量流量的影响,运用气体润滑理论,对气浮平台的单个节流孔进行理论分析,得到气膜平面的压力分布规律。建立正负压节流孔间隔排布的通孔阵列模型,通过Gambit建立模型并划分网格,对模型提供不同的负压,导入Fluent进行数值计算,得到各种情况下通孔阵列和阵列中心的压力、速度分布曲线。比较得到负压为-2 k Pa时,气膜稳定性更好。分析不同负压所需与之匹配的正压,得到对同一支承物,气膜厚度不变的情况下,正压随负压的变化规律。最后从稳定性和经济性因素出发,得到玻璃光学检测仪器的气浮支承平台的供气参数。
文明[2]（2015）在《精密气浮工作台多体动力学仿真与动态特性优化》文中研究表明光刻机是集成电路制造业中的关键设备,精密气浮工作台作为光刻机的关键子部件,其工作性能直接决定了光刻机的工作性能,因此对工作台进行研究具有重要意义。本文重点研究了光刻机精密气浮工作台的气浮轴承特性、工作台的多体动力学建模与仿真,并基于此对工作台的动态特性进行了优化。本文首先基于可压缩润滑理论,确定了气浮轴承气膜模型的参数与三维模型;使用前处理软件ANSYS ICEM CFD及流体仿真软件FLUENT,在不同参数条件下对模型进行了结构性网格划分及仿真,计算模型的压力分布,得到气浮轴承的承载力;重复上述过程,建立气浮轴承在不同工况下的承载特性数据库。介绍了精密气浮工作台的体系结构,基于气浮轴承的承载特性数据及其它相关数据成功建立了工作台的多体动力学模型,计算分析了工作台的固有频率与振型,仿真得到工作台在步进扫描过程中的动态特性。参数化多体动力学模型,创建模型的设计变量与目标变量,编写目标变量评价程序。组建优化仿真模块,使用计算机辅助优化设计软件Isight集成了优化仿真模型,优化了设计变量,提高了工作台的稳定性,缩短了工作台收敛时间。
项程[3]（2012）在《光刻机双工件台系统数学模型的建立与验证》文中指出光刻机是超大规模集成电路制造这个庞大的半导体系统工程能够稳步快速前进的关键设备，双工件台系统是工件台系统发展演变而得到突破性的进展得到的成果，双工件台系统在光刻机中起着至关重要的作用，它的定位精度直接影响了光刻出来的硅片的质量。在本论文中，首先分析了连接整个双工件台系统的空气弹簧，根据气膜面的机械设计情况计算了空气弹簧的弹性系数以及空气阻力的计算，为进行进一步的结构分析做了准备工作。接着，就对承载整个双工件台系统的平衡质量块进行力学分析，并且建立了它的运动方程，分析平衡质量块的运动特性。在弹簧和阻尼器的限制下，平衡质量块在平面内进行有阻尼的二阶振动，其运动的位移相对于微动台的宏动位移数值很小，满足了结构的设计要求。由于平衡质量块的约束条件在竖直方向只有空气弹簧的作用，水平方向由弹簧和阻尼器的作用，深入分析了平衡质量块的六自由度运动特性，并且建立了它的六自由度运动方程。同时也分析微动台的六自由度姿态。微动台是微调硅片姿态的控制平台，由于机械上的设计，结构中有很多的耦合效应，就需要对微动台进行解耦运算；解耦完成后，得到各个方向的力和力矩的分量，建立了微动台在力矩的作用下各个方向姿态变化的方程，通过软件仿真得到实时的姿态变化。接下来，采用有限元软件对结构进行了分析，用来初步验证建立的模型的准确程度。对平衡质量块进行了具体的模态分析，得到了各个模态的频率，与所建立的模型相比较，误差很小，说明模型具有一定的准确性。也对气足进行了有限元软件分析，因为气足是整个系统的连接机构，它的数值量对于整个结构的影响很大。软件仿真的结果与理论计算的结果相符。最后，设计了测量隔振系统效果的试验方案；设计了用激光干涉仪测量微动台六自由度姿态的光路图，以及具体的实验方案；设计测量阻尼器阻尼参数的试验方案。
邓乐[4]（2011）在《掩模台机械系统设计及仿真》文中提出光刻机是集成电路产业的基础设备,光刻机的线宽决定着集成电路的特征尺寸。光刻机研制水平的提高能够带动整个集成电路产业界的技术升级,能够有效地促进国家经济的发展和提高国家高技术领域的核心竞争力。光刻机俨然已成为衡量国家综合国力的重要标志。极紫外光刻机是当今光刻机研制中的热点。掩模台是极紫外光刻机中的核心组成部分,由于极紫外光刻机套刻精度和产业化的要求,掩模台要实现高速大行程的纳米级运动,这使得掩模台成为了一个电、气、磁耦合的复杂机械系统。利用SolidWorks、ANSYS静力分析、ANSYS模态分析和ANSYS拓扑优化初步完成了对掩模台的结构设计和优化,使其固有频率和质量都能达到设计要求。掩模台设计成宏动台和微动台的双级结构。宏动台采用“H”型直线电机驱动和气浮导轨支撑,微动台采用音圈电机驱动和支撑。直线电机的启动和停止会引起掩模台的超调,因此对微动台、掩模支撑系统、基座系统分别进行了瞬态分析,得到了相应的稳定时间。直线电机的电磁力存在周期性的波动,这个波动会影响宏动台的振动。利用ANSYS谐分析得到了掩模支撑系统的最大振动幅值。为了得到外界干扰的影响,对基座系统进行了随机振动分析。利用SolidWorks、GAMBIT和FLUENT完成了对气浮导轨的设计,使得每个气浮滑块竖直刚度为93.46 N/μm,水平刚度为121.56 N/μm。掩模板的变形会直接影响到套刻精度,因此对掩模板进行了热-结构耦合分析。当掩模板变形产生的套刻误差超出设计指标值时,提出了三条改进措施,最终使其达到设计指标。
辛杰[5]（2010）在《极紫外光刻机工件台动力学建模及仿真》文中进行了进一步梳理工件台系统是极紫外光刻（EUV）的一个关键子系统。极紫外光刻机采用步进扫描曝光方式,成像质量不仅取决于光学系统的质量,还取决于工件台的动态定位,因此工件台系统机械结构的动态性能和光学系统的质量同样重要。工件台的运行精度、速度、加速度以及动态定位是影响整机成像质量、套刻精度和产率的重要因素。因此在研发阶段对工件台系统的动态分析就显得尤为重要。通过分析国内外先进超精密工件台结构形式,对工件台关键技术进行了研究。分析了真空平衡型气浮支撑的工作原理,推导出数学模型,并进行了承载力及刚度分析;对工件台整体方案进行了分析,并对直线电机及气浮导轨结构形式进行了分析;针对微动平台微动特性,运用几何分析方法,对其进行了运动分析,以解释其微动补偿作用,并对微动台部分进行了结构设计。运用有限元分析软件ANSYS对工件台系统进行了静力分析,模态分析以及瞬态分析。通过静力分析找出工件台静力变形最大位置,为结构设计以及系统安装提供依据。对工件台整机进行了模态分析,找出结构设计的薄弱环节。由于承载微动台决定了系统最终定位精度,因此对承载微动台部分单独进行模态分析。运用瞬态分析方法对工件台动态特性进行了分析,分析其在不同阻尼下的动态响应。尝试将拓扑优化以及参数化建模技术引入结构设计之中。对承载微动台进行基于静态刚度以及动态刚度的拓扑优化分析。利用ANSYS中的APDL语言对承载微动台进行参数化建模及二次开发,将整个有限元分析过程参数化。对拓扑优化后模型进行灵敏度分析,运用ANSYS优化模块对其进行优化。最后对优化后承载微动台进行了静力分析、模态分析以及瞬态分析。
陈学东,鲍秀兰,何学明,余显忠[6]（2007）在《纳米级超精密气浮工件台振动特性分析》文中研究表明针对超精密气浮工件台的振动特性展开研究,提出了一种气固耦合的仿真处理方法.采用在气浮孔中施加对地弹簧的方法来模拟气浮系统,建立了工件台系统的动力学模型,推导出了系统的振动方程,对振动特性进行了求解和分析,得到了系统的固有频率和振型,对系统的结构刚度有了一个较为准确的估计.仿真结果表明振动对工件台定位精度影响很小,但会给测量造成一些误差.由仿真辨识出了气浮引起的振动频率范围,为系统的进一步优化提供了理论依据.通过试验证明了仿真模型的正确性和精确程度,并由试验结果证实了由气浮产生的振动远小于由系统结构引起的振动.
刘赟[7]（2007）在《基于多刚体动力学模型的硅片台运动控制分析》文中指出步进扫描投影光刻机是高端IC制造中最重要和最复杂的关键设备之一,而硅片台则是光刻机的核心单元之一,其定位精度、速度和加速度要求很高,要求达到的纳米级精度已近制造极限。这对硅片台系统的稳定性和可靠性提出了非常苛刻的要求,因此进行硅片台动力学特性以及控制特性的研究,对提高光刻机的精度具有重要意义。通过对硅片台的机械结构进行分析,基于多刚体动力学理论,利用ADAMS和Simulink软件建立了多自由度硅片台多刚体动力学模型。对硅片台系统进行了振动测试,仿真结果与测试结果比较一致,从而验证了建立的多刚体动力学模型的正确性。在硅片台多刚体动力学模型的基础上计算得到了硅片台水平运动方向上的频率响应曲线,并对硅片台的动力学特性进行了分析,为后续的控制器设计与运动控制仿真奠定了基础。结合硅片台运动指标和动力学特性,提出了反馈与前馈相结合的控制方案。首先确定了反馈控制器的设计指标,并分别设计了PID控制器和鲁棒控制器;然后提出了以加速度信号作为前馈的实施方案;最后建立了硅片台水平向主从运动控制模型,仿真结果表明在跟踪误差和定位精度上,鲁棒控制器的控制效果均要优于PID控制器,并且能够达到要求的指标。综合前面的工作,自主开发了硅片台动力学与控制仿真分析平台。首先规划了硅片台动力学与控制仿真分析平台的功能,设计了平台的软件结构;然后介绍了平台的实现过程;最后以一个实例展示了利用平台对硅片台进行动力学与控制分析的过程,证明平台有助于用户对硅片台的动力学与控制进行分析。
何学明[8]（2007）在《超精密气浮定位工作台的动力学研究》文中认为基于气浮支承和电磁直接驱动的定位工作台,是一种新型的超精密运动机构,它克服了传统的以旋转电机和滚动丝杠驱动的定位工作台传动环节多、响应滞后大、存在摩擦等缺点,在半导体光刻设备、精密测量和生物医学等领域具有十分广泛的应用前景。由于该定位工作台存在复杂的气浮非线性效应,传统的理论建模和分析方法不能解决这类超精密运动机构的系统动力学及定位控制的难题。利用气浮支承润滑变分方法和有限元数值分析方法,计算并获得精密气浮轴承的动静特性的变化规律、气体流场和压力场的分布,揭示了气腔形状和气浮轴承内表面形状对轴承特性的影响规律,分析并辨识了气浮支承的特征参数,从而求得了不同气膜厚度下的轴承承载力和刚度,提出了气浮轴承的最佳结构形式。运用理论分析和实验研究相结合的方法,探明了精密气浮定位工作台幅频响应受气浮支承参数非线性的影响特征,阐明了系统动力学性能随气浮轴承特征参数的变化规律。建立了气浮定位工作台定位运动的数学模型,提出了混合趋近律滑模控制新策略（MTSMC）,进而建立了气浮定位工作台运动的混合趋近滑模控制的位置反馈控制模型,并进行了气浮参数的分析试验。结果表明气浮定位工作台在混合趋近滑模控制下,能消除气浮轴承非线性及定位平台存在未建模现象的影响,实现纳米级的定位控制精度。完成了超精密气浮平台的动力学特性和定位精度测试实验,结果表明:在非气浮状态下,定位平台的运动部件间存在间隙和摩擦力,严重影响了平台运动的定位精度;而在气浮状态下,平台的运动部件间充满了压缩空气,虽然运动部件间仍然存在间隙,但是气浮支承所产生的气浮刚度使运动部件间具有了可靠的柔性连接,维持了较好的运动平稳性和良好的试验重复性;同时运动部件间不存在直接接触性摩擦,由于气体粘度小,其摩擦阻力可以忽略,平台的定位精度得到了极大的改善;气浮平台在Y方向和Z方向的最大直线度误差（3σ）为9.8256 nm,最大偏转误差（3σ）为3.8238×10-8 rad,平台的定位误差不超过±10 nm,验证了本文前面所述的理论和仿真结果的正确性。
朱涛[9]（2006）在《极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术》文中认为极紫外光刻技术（EUVL）被称为最有发展潜力的下一代光刻技术,有望接替光学光刻,成为45nm以下光刻产业的主流技术。因而,该技术也是目前国际上先进光刻领域研究的热点。 工件台是光刻机最关键的子系统之一,也是实现光刻机功能和精度的基础。EUVL工件台继承了许多光学光刻工件台技术,它是精密机械、检测、控制、真空等技术的集成,在光刻机对准和扫描曝光过程中起着至关重要的作用。 本报告针对45nm产业化EUV光刻机设备的需求,提出适用于真空作业的高速度高精度真空工件台的设计方案,以及相关的控制技术方案。并通过仿真分析对设计结果进行验证。同时,为了实现物镜系统的自动装调,还设计了物镜系统的装调装置。 报告围绕工件台的机构、控制以及物镜装调系统三部分展开,具体工作主要包括: EUVL工件台结构设计及仿真分析。首先比较了两种非接触式工件台结构特点:气浮工件台和磁悬浮工件台。接着根据45nm 100wph产率模型下EUVL工件台设计要求,设计了磁浮型、气磁结合型两种工件台机构。综合考虑了摩擦力、导线干扰、振动冲击等因素对于工件台的影响,所设计的机构具有结构紧凑、精度高、刚度大、稳定性好的特点。针对步进和扫描两种不同工作状态,对工件台进行了静态分析、瞬态分析和模态分析。根据仿真结果改进了原设计的结构,通过局部挖空方法,改进后的设计,不仅静态变形减小,而且一阶固有频率比原来提高了300hz左右。 设计了工件台控制系统,针对工件台的精密定位和同步扫描提出了相应的控制策略。利用粗/微平台二级协调控制系统解决了大行程和超高精度的矛盾,重点考虑了二级控制中的阈值转换和干扰补偿问题。设计了同步补偿器,利用掩模台微动台运动实时补偿掩模台与硅片台间的位置同步误差。在所建立的控制模型基础上,通过MATLAB仿真对控制系统及控制策略进行模拟。仿真结果显示,同步补偿器可以有效地抑制扰动对于同步精度的影响,提高同步跟踪精度。同时,本报告还研究了环境影响因素的控制补偿方法。 针对EUVL投影光学物镜系统中6枚反射镜的不同结构形状,设计了自动装调系统。该机构包括了压电驱动器驱动的调节杆组件,可以实现物镜的5自由度计算机自动装调。仿真分析显示,装调机构结构合理,静态变形小,稳定性好。
陈志凌[10]（2005）在《环矩形真空吸浮导轨的研究》文中指出本文在论述气体润滑原理及其应用和发展概况的基础上,分析了空气静压导轨的优缺点及改进措施,介绍了真空吸浮型空气静压导轨的工作原理和设计中需要考虑的问题。首先,结合CFX 软件,运用CFD（计算流体动力学）的方法,建立了真空吸浮型空气静压导轨的控制方程和流体模型,对圆气腔圆形垫,圆气腔矩形垫,矩形气腔矩形垫,圆环形垫,环矩形垫等几种常用静压垫结构进行了分析,比较它们的气流速度分布,压强分布,质量流量和承载能力,得到环矩形静压垫具有较好的性能。然后,重点对环矩形真空吸浮导轨进行了理论计算和仿真分析,研究了其气流流动轨迹,速度分布和压强分布。仿真分析了环矩形真空吸浮导轨在气源供气正压和抽气负压改变,及静压垫的环形槽宽度,环形槽深度,气腔大小,气腔深度,节流孔孔径,节流孔个数等参数变化时,其压强分布,速度分布,质量流量,承载能力等特性的影响,为环矩形真空吸浮导轨的优化设计提供了依据。最后,提出了尚待研究的问题,和进一步研究的方案。
二、投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究（论文提纲范文）
（1）负压式气浮平台供气压力的研究（论文提纲范文）
| 0前言 |
| 1 气浮平台的静特性方程 |
| 1.1 负压式气浮平台的工作原理 |
| 1.2 静特性方程 |
| 2 数值仿真 |
| 2.1 负压对气膜稳定性的影响 |
| 2.2 负压大小对正压、质量流量的影响 |
| 3 结论 |
（2）精密气浮工作台多体动力学仿真与动态特性优化（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 1 绪论 |
| 1.1 课题来源 |
| 1.2 研究背景及意义 |
| 1.3 国内外主要研究现状 |
| 1.3.1 超精密工作台国内外研究现状及分析 |
| 1.3.2 计算流体力学与有限体积法概述 |
| 1.3.3 虚拟样机技术概述 |
| 1.3.4 计算辅助优化概述 |
| 1.4 本文主要研究内容 |
| 2 精密气浮工作台气浮轴承静承载特性仿真 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 气浮轴承的工作原理与模型研究 |
| 2.3 气浮轴承三维模型建立与结构性网格划分 |
| 2.4 仿真计算与数据后处理 |
| 2.4.1 求解设置与边界条件确定 |
| 2.4.2 仿真计算与结果分析 |
| 2.4.3 承载力曲线数据库的生成 |
| 2.5 本章小节 |
| 3 精密气浮工作台多体动力学建模与动态特性分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 精密气浮工作台系统结构 |
| 3.3 精密气浮工作台虚拟样机模型建立 |
| 3.3.1 柔性支撑块柔性体的生成 |
| 3.3.2 气浮数据导入与轴承分布方案设计 |
| 3.3.3 精密气浮工作台ADAMS整机动力学模型 |
| 3.4 精密气浮工作台虚拟样机系统动态特性分析 |
| 3.4.1 固有特性分析 |
| 3.4.2 工作台动力学特性分析 |
| 3.5 本章小节 |
| 4 精密气浮工作台多体动力学动态特性优化 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 精密气浮工作台优化设计流程的确定 |
| 4.3 工作台ISIGHT优化模型的建立 |
| 4.3.1 设计变量与ADAMS模块的建立 |
| 4.3.2 优化目标与MATLAB模块建立 |
| 4.3.3 Isight优化模型的建立 |
| 4.4 优化过程与结果分析 |
| 4.5 本章小节 |
| 5 总结与展望 |
| 5.1 全文总结 |
| 5.2 研究展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录 1 攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 |
（3）光刻机双工件台系统数学模型的建立与验证（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题研究来源及意义 |
| 1.2 国内外研究现状 |
| 1.2.1 国外研究现状 |
| 1.2.2 国内研究现状 |
| 1.3 本文研究内容 |
| 第2章 光刻机双工件台系统数学模型的建立与仿真 |
| 2.1 气浮面参数的计算 |
| 2.2 光刻机双工件台系统的数学模型的建立 |
| 2.2.1 光刻机单工件台时系统运动特性 |
| 2.2.2 双工件台系统驱动力与位移的关系 |
| 2.3 平衡质量块 6 自由度模型 |
| 2.4 微动台 6 自由度力学模型 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 双工件台结构关键子部件力学分析 |
| 3.1 有限元方法的基本思想简略介绍 |
| 3.2 双工件台系统纵向频率分析 |
| 3.3 平衡质量块模态分析 |
| 3.4 微动台硅片承载板模态分析 |
| 3.5 气足力学分析 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 实验方案设计 |
| 4.1 振动试验设计 |
| 4.1.1 双工件台基座振动试验准备 |
| 4.1.2 建立振动系统数学模型 |
| 4.1.3 试验结果与分析 |
| 4.1.4 平衡质量块的振动试验设计 |
| 4.2 气膜刚度测量实验设计方案 |
| 4.3 双工件台定位精度测量实验设计 |
| 4.4 阻尼器测试实验 |
| 4.5 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（4）掩模台机械系统设计及仿真（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题来源及研究目的和意义 |
| 1.2 国内外研究状况 |
| 1.2.1 国外光刻机的研究状况 |
| 1.2.2 国内光刻机的研究状况 |
| 1.2.3 掩模台关键技术研究 |
| 1.3 本课题的主要研究内容 |
| 第2章 结构设计及优化 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 掩模微动台 |
| 2.2.1 掩模板的选材和定位安装 |
| 2.2.2 微动台的驱动、支撑和测量 |
| 2.2.3 掩模框架的设计 |
| 2.2.4 微动台整体结构 |
| 2.3 掩模宏动台 |
| 2.3.1 掩模连接板的设计 |
| 2.3.2 掩模支撑板的设计及结构优化 |
| 2.3.3 平衡质量块的设计 |
| 2.4 基座及掩模台整体结构 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 掩模台静动态分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 掩模板静力分析 |
| 3.3 微动台瞬态分析 |
| 3.4 掩模支撑系统动力学分析 |
| 3.4.1 掩模支撑系统瞬态分析 |
| 3.4.2 掩模支撑系统谐分析 |
| 3.5 掩模基座系统动力学分析 |
| 3.5.1 掩模基座系统模态分析 |
| 3.5.2 基座系统瞬态分析 |
| 3.5.3 基座系统随机振动分析 |
| 3.6 本章小结 |
| 第4章 气浮导轨设计 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 静压气浮导轨技术 |
| 4.2.1 节流器的选用 |
| 4.2.2 确定气浮导轨的结构 |
| 4.2.3 预加载技术 |
| 4.3 确定仿真试验方案 |
| 4.4 建模与求解 |
| 4.5 仿真结果分析 |
| 4.6 底面气浮的设计 |
| 4.7 本章小结 |
| 第5章 掩模板热-结构耦合分析 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 音圈电机发热引起的温度变化 |
| 5.3 极紫外线引起的温度变化 |
| 5.3.1 掩模板的吸热 |
| 5.3.2 掩模板的散热 |
| 5.3.3 仿真分析结果 |
| 5.4 掩模板的变形 |
| 5.4.1 掩模板温度变化引起的变形 |
| 5.4.2 重力和温度场综合引起的变形 |
| 5.4.3 变形补偿 |
| 5.5 改进措施 |
| 5.5.1 减少掩模片的温度变化 |
| 5.5.2 改变真空吸盘与掩模支撑框架的连接 |
| 5.5.3 改变标记传感器的位置 |
| 5.6 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（5）极紫外光刻机工件台动力学建模及仿真（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 课题背景和研究意义 |
| 1.2 国内外高精度工件台发展现状 |
| 1.3 光刻机工件台的技术难点 |
| 1.3.1 工件台总体结构方案 |
| 1.3.2 工件台材料选择 |
| 1.3.3 直线驱动技术 |
| 1.3.4 直线导向技术 |
| 1.4 光刻机工件台动态结构分析 |
| 1.5 本课题的主要研究内容 |
| 第2章 工件台关键技术及结构设计 |
| 2.1 气浮支撑技术工作原理 |
| 2.1.1 真空平衡气足数学模型 |
| 2.1.2 预加载技术 |
| 2.2 直线驱动技术 |
| 2.3 工件台方案 |
| 2.4 两级气浮扫描工件台结构设计 |
| 2.4.1 微动台精度补偿分析 |
| 2.4.2 微动台结构设计 |
| 2.5 本章小结 |
| 第3章 工件台静力学及动力学分析 |
| 3.1 有限元法基本思想 |
| 3.2 工件台静力学分析 |
| 3.2.1 紧固件静力学分析 |
| 3.2.2 工件台工况分析 |
| 3.3 工件台模态分析 |
| 3.3.1 工件台等效动力学模型 |
| 3.3.2 模态分析结果 |
| 3.4 工件台瞬态分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 第4章 工件台结构优化设计 |
| 4.1 基于ANSYS的结构拓扑优化 |
| 4.1.1 ANSYS中拓扑优化相关理论及应用 |
| 4.1.2 选择单元类型 |
| 4.1.3 定义并控制载荷工况 |
| 4.1.4 定义并控制优化过程 |
| 4.1.5 拓扑优化结果分析 |
| 4.2 工件台参数化建模及仿真分析 |
| 4.2.1 工件台参数化建模 |
| 4.2.2 仿真结果分析 |
| 4.3 动态优化设计 |
| 4.3.1 灵敏度分析 |
| 4.3.2 承载微动台优化设计变量 |
| 4.3.3 承载微动台优化设计目标函数 |
| 4.3.4 承载微动台优化设计约束条件 |
| 4.3.5 承载微动台动力优化设计数学模型 |
| 4.3.6 ANSYS优化分析 |
| 4.4 优化后承载微动台动态响应分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（6）纳米级超精密气浮工件台振动特性分析（论文提纲范文）
| 1 超精密气浮工件台结构 |
| 2 简化动力学模型 |
| 3 仿真结果 |
| 4 试验验证 |
（7）基于多刚体动力学模型的硅片台运动控制分析（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 课题的来源、背景及意义 |
| 1.2 光刻机硅片台的研究现状 |
| 1.3 多刚体动力学的研究现状 |
| 1.4 光刻机硅片台控制策略的研究现状 |
| 1.5 主要研究内容 |
| 2 硅片台的硬件组成和特点 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 硅片台的机械结构 |
| 2.3 硅片台的控制策略 |
| 2.4 小结 |
| 3 硅片台多刚体动力学建模与分析 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 多刚体动力学建模工具 |
| 3.3 多刚体动力学模型 |
| 3.4 模型验证 |
| 3.5 硅片台动力学特性分析 |
| 3.6 小结 |
| 4 硅片台运动控制仿真分析 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 控制相关理论 |
| 4.3 反馈控制器设计 |
| 4.4 前馈控制 |
| 4.5 运动控制仿真分析 |
| 4.6 小结 |
| 5 硅片台动力学与控制仿真分析平台 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 仿真分析平台的功能规划 |
| 5.3 仿真分析平台的设计实现 |
| 5.4 仿真分析及实例 |
| 5.5 小结 |
| 6 总结与展望 |
| 6.1 全文总结 |
| 6.2 研究展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
（8）超精密气浮定位工作台的动力学研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 课题的来源、背景和意义 |
| 1.3 超精密气浮定位工作台的研究进展情况 |
| 1.4 课题研究的主要内容、研究重点与难点 |
| 1.5 研究的主要方法及程序 |
| 1.6 课题研究的主要创新点 |
| 1.7 论文的主要章节及内容 |
| 2 气浮支承技术和电磁直接驱动的基本原理 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 气浮支承技术的工作原理 |
| 2.3 电磁无接触直接驱动的工作原理 |
| 2.4 本章小结 |
| 3 气浮支承的模型及有限元分析法 |
| 3.1 引言 |
| 3.2 气浮支承静压润滑系统概述 |
| 3.3 气浮支承润滑问题的变分表示法 |
| 3.4 用有限元法解气浮支承的静压润滑问题 |
| 3.5 气浮支承的静压润滑稳定性 |
| 3.6 本章小结 |
| 4 超精密气浮支承的数值计算与仿真 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 影响因素分析 |
| 4.3 气浮支承的特性分析及数值计算 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 超精密气浮定位工作台的动力学特性分析与仿真 |
| 5.1 引言 |
| 5.2 气浮定位工作台的数学模型 |
| 5.3 求解F_(bi)和F_c |
| 5.4 动态特性的仿真分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 6 超精密气浮定位工作台定位运动的分析和仿真 |
| 6.1 引言 |
| 6.2 气浮定位工作台直线运动的数学模型 |
| 6.3 混合趋近律滑模变结构控制模型的建立与仿真 |
| 6.4 定位工作台输出位移的仿真试验与精度分析 |
| 6.5 本章小结 |
| 7 超精密气浮定位工作台的动态特性的实验研究 |
| 7.1 引言 |
| 7.2 实验的设计 |
| 7.3 实验结果与分析 |
| 7.4 本章小结 |
| 8 全文总结与研究展望 |
| 8.1 全文总结 |
| 8.2 研究展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录1 作者在攻读博士学位期间发表的学术论文 |
（9）极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术（论文提纲范文）
| 第一章 绪论 |
| 1.1 EUVL技术研究进展 |
| 1.2 EUVL工件台相关技术研究 |
| 1.2.1 步进扫描型工件台结构 |
| 1.2.2 步进扫描曝光原理 |
| 1.2.3 步进扫描型工件台的技术指标 |
| 1.3 EUVL工件台技术研究现状 |
| 1.4 EUVL工件台研究存在问题及挑战 |
| 1.5 本文的主要研究内容 |
| 第二章 EUVL工件台结构设计及仿真 |
| 2.1 EUVL工件台设计要求 |
| 2.2 气浮与磁悬浮工件台比较 |
| 2.3 EUVL工件台机构设计 |
| 2.3.1 设计要点及结构方案 |
| 2.3.2 结构方案 |
| 2.3.3 磁悬浮工件台设计 |
| 2.3.4 气磁结合型工件台设计 |
| 2.3.5 工件台检测系统 |
| 2.3.6 工件台结构设计要点 |
| 2.3.7 误差分析 |
| 2.4 工件台结构仿真分析 |
| 2.4.1 有限元模型的建立 |
| 2.4.2 工件台结构仿真分析 |
| 2.4.3 仿真结果分析 |
| 2.5 本章小结 |
| 第三章 EUVL工件台控制系统设计 |
| 3.1 EUVL工件台控制系统功能及要求 |
| 3.2 EUVL工件台控制系统设计 |
| 3.2.1 控制系统的总体结构 |
| 3.2.2 工件台粗/微二级控制系统设计 |
| 3.2.3 硅片台掩模台同步协调控制 |
| 3.3 EUVL工件台同步控制系统仿真 |
| 3.3.1 仿真模型的建立 |
| 3.3.2 仿真结果及分析 |
| 3.4 环境影响因素分析 |
| 3.5 本章小结 |
| 第四章 物镜装调系统设计 |
| 4.1 物镜装调系统结构及功能要求 |
| 4.2 物镜装调机构及其控制系统设计 |
| 4.3 物镜系统整体固定装置设计 |
| 4.4 物镜及装调机构结构仿真分析 |
| 4.5 本章小结 |
| 第五章 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 博士后期间发表的学术论文、专着、重要科研成果 |
| 出站报告说明 |
| 关于论文使用授权的说明 |
（10）环矩形真空吸浮导轨的研究（论文提纲范文）
| 第一章 气体润滑及真空吸浮导轨概述 |
| 1.1 气体润滑概述 |
| 1.2 空气静压导轨 |
| 1.3 真空吸浮导轨 |
| 1.4 研究意义及研究内容 |
| 第二章 几种常用静压垫特性的比较 |
| 2.1 CFD 技术及CFX 软件简介 |
| 2.2 仿真分析的控制方程和流体模型 |
| 2.3 几种常用静压垫的仿真分析 |
| 2.4 几种常用静压垫特性的比较 |
| 第三章 环矩形真空吸浮导轨的理论研究 |
| 3.1 环矩形静压垫的结构展开 |
| 3.2 环矩形静压垫的基本方程 |
| 3.3 环矩形静压垫的质量流量 |
| 3.4 环矩形静压垫的压强分布 |
| 第四章 环矩形真空吸浮静压垫的仿真分析 |
| 4.1 环矩形真空吸浮静压垫的流体模型 |
| 4.2 环矩形真空吸浮静压垫的气流轨迹 |
| 4.3 环矩形真空吸浮静压垫的压强分布 |
| 4.4 环矩形真空吸浮静压垫的速度分布 |
| 第五章 工作条件和结构参数变化对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.1 供气正压对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.2 抽气负压对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.3 环形槽宽度对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.4 环形槽深度对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.5 气腔大小对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.6 气腔深度对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.7 节流孔径对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 5.8 节流孔个数对环矩形真空吸浮导轨特性的影响 |
| 第六章 结论与展望 |
| 参考文献 |
| 硕士期间发表论文情况 |
| 致谢 |
| 硕士学位论文原创性声明 |
四、投影光刻机工件台的压力-真空平衡气足研究（论文参考文献）
- [1]负压式气浮平台供气压力的研究[J]. 李程伟,周杨,黄斌. 机床与液压, 2018(19)
- [2]精密气浮工作台多体动力学仿真与动态特性优化[D]. 文明. 华中科技大学, 2015(06)
- [3]光刻机双工件台系统数学模型的建立与验证[D]. 项程. 哈尔滨工业大学, 2012(04)
- [4]掩模台机械系统设计及仿真[D]. 邓乐. 哈尔滨工业大学, 2011(05)
- [5]极紫外光刻机工件台动力学建模及仿真[D]. 辛杰. 哈尔滨工业大学, 2010(06)
- [6]纳米级超精密气浮工件台振动特性分析[J]. 陈学东,鲍秀兰,何学明,余显忠. 华中科技大学学报(自然科学版), 2007(11)
- [7]基于多刚体动力学模型的硅片台运动控制分析[D]. 刘赟. 华中科技大学, 2007(05)
- [8]超精密气浮定位工作台的动力学研究[D]. 何学明. 华中科技大学, 2007(05)
- [9]极紫外光刻机工件台精密机械及控制相关技术[D]. 朱涛. 中国科学院研究生院（电工研究所）, 2006(09)
- [10]环矩形真空吸浮导轨的研究[D]. 陈志凌. 中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所）, 2005(05)